流場密度的變化與介質(zhì)折射率有線性關(guān)系，密度的變化直接反映為折射率變化。折射率的變化將引起光線的偏折，從而引起像面照度的變化，形成不規(guī)則的明暗條紋。利用這一原理進行折射率變化的測試即為紋影技術(shù)，該技術(shù)可用于觀察氣體介質(zhì)、液體及透明固體材料中由于火花放電、爆炸、流動、受力所引起的物理運動過程。

 

紋影儀(光學流場顯示儀)是采用紋影方法顯示透明介質(zhì)密度和溫度分布在介質(zhì)中折射率變化的通用光學流場顯示儀器，為研究分層流、多項流、超聲速流、傳熱與傳質(zhì)，自然與強迫的燃燒、火焰、爆炸，等離子體、某些化學反應(yīng)等學科以及沖擊波陣面在透明介質(zhì)中的傳播、高壓力下自由表面微物質(zhì)噴射、界面上波系狀況、界面不穩(wěn)定性、高電壓下橋絲的熔化過程和放電弱沖擊波以及航空航天等工程領(lǐng)域研究提供了科學的流場密度變化觀測手段。產(chǎn)品通過配套圖像采集設(shè)備為科學研究提供了理想真實的流場密度變化流動圖像記錄。

 

WKJWY-200聚焦紋影儀能夠排除常規(guī)陰影儀和紋影儀對這個測試光路中流場信息進行積分顯示，其僅顯示感興趣的截面的流場信息。通過對多個截面進行聚焦紋影流場顯示，還能達到三維流場顯示的目的。